Nd:KGW激光掩膜微加工设备
项目名称:Nd:KGW激光掩膜微加工设备
成果单位：中国科学院光学精密机械与物理研究所
检索用关键词：Nd:KGW激光掩膜微加工设备
专利状况：3
专利申请号：-
应用行业：D,
技术领域：-
技术产品用途介绍：该设备是以Nd:KGW激光器为光源的掩膜微加工技术，为国际创新技术。可广泛用于微电子器件、介入医疗器械、微机械、微标识、特殊异型孔加工、金刚石等超硬材料加工等高新技术领域。
产品性能：独创的快速掩膜制备技术，可在三分钟内完成掩膜制备。主要技术指标：1、波长：1064nm; 2、重复频率：≧100Hz; 3、脉宽：≦8ns; 4、模式：TEM00; 5、峰值功率：8000kW；6、稳定性：≦5%；7、最大加工区域：3mm
成果单位：中国科学院光学精密机械与物理研究所
检索用关键词：Nd:KGW激光掩膜微加工设备
专利状况：3
专利申请号：-
应用行业：D,
技术领域：-
技术产品用途介绍：该设备是以Nd:KGW激光器为光源的掩膜微加工技术，为国际创新技术。可广泛用于微电子器件、介入医疗器械、微机械、微标识、特殊异型孔加工、金刚石等超硬材料加工等高新技术领域。
产品性能：独创的快速掩膜制备技术，可在三分钟内完成掩膜制备。主要技术指标：1、波长：1064nm; 2、重复频率：≧100Hz; 3、脉宽：≦8ns; 4、模式：TEM00; 5、峰值功率：8000kW；6、稳定性：≦5%；7、最大加工区域：3mm